टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्यभौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) प्रौद्योगिकी में प्रमुख सामग्रियां हैं, विशेष रूप से स्पटरिंग कोटिंग की प्रक्रिया में। वे टाइटेनियम कच्चे माल से बने होते हैं, और इलेक्ट्रॉनिक्स, सूचना प्रौद्योगिकी, सजावटी क्षेत्रों और ऑटोमोटिव ग्लास विनिर्माण जैसे उच्च तकनीकी उद्योगों में व्यापक रूप से उपयोग किए जाते हैं। इन अनुप्रयोगों में, टाइटेनियम लक्ष्य विशेष रूप से एकीकृत सर्किट में कोटिंग, फ्लैट पैनल डिस्प्ले पैनल की सतह कोटिंग, या सजावटी और कार्यात्मक ग्लास के लिए कोटिंग परतों के रूप में लागू होते हैं।
टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य की मुख्य प्रदर्शन आवश्यकताएँ
टाइटेनियम लक्ष्य सामग्रियों का प्रदर्शन सीधे जमा की गई फिल्मों की गुणवत्ता और अंतिम उपकरणों के प्रदर्शन को निर्धारित करता है।
पवित्रता: शुद्धता लक्ष्य सामग्री के सबसे महत्वपूर्ण प्रदर्शन संकेतकों में से एक है, और यह फिल्मों के प्रदर्शन को महत्वपूर्ण रूप से प्रभावित करती है। विभिन्न अनुप्रयोगों के आधार पर शुद्धता की आवश्यकताएँ बहुत भिन्न होती हैं। चिप निर्माण में प्रवृत्ति यह है कि सिलिकॉन वेफर्स बड़े होते जा रहे हैं और सर्किट लाइनें पतली होती जा रही हैं। सिलिकॉन वेफर्स का आकार 12 इंच तक उन्नत कर दिया गया है, और तारों की चौड़ाई धीरे-धीरे कम होकर 0.25 μm, 0.18 μm और 0.13 μm हो गई है। इसलिए, मुख्य सामग्री, टाइटेनियम लक्ष्य सामग्री के लिए शुद्धता की आवश्यकताएं तेजी से सख्त हो गई हैं। 0.35 μm प्रक्रिया के लिए, 99.995% की शुद्धता वाली लक्ष्य सामग्री की आवश्यकता होती है, और 0.18 μm प्रक्रिया के लिए, 99.999% की शुद्धता या यहां तक कि अति- उच्च शुद्धता वाली लक्ष्य सामग्री आवश्यक है।
अशुद्धता सामग्री: लक्ष्य सामग्री के ठोस में अशुद्धियाँ और आंतरिक छिद्रों में अवशोषित ऑक्सीजन और जल वाष्प, जमा फिल्मों के लिए संदूषण के मुख्य स्रोत हैं। विभिन्न अनुप्रयोगों में विशिष्ट अशुद्धता सामग्री पर अत्यधिक सख्त सीमाएँ होती हैं। उदाहरण के लिए, सेमीकंडक्टर उद्योग में उपयोग किए जाने वाले शुद्ध एल्यूमीनियम और एल्यूमीनियम मिश्र धातुओं में क्षार धातु सामग्री और रेडियोधर्मी तत्व सामग्री के लिए बेहद सख्त विशेष आवश्यकताएं होती हैं।
घनत्व: लक्ष्य सामग्री में आंतरिक छिद्रों को कम करने और थूक वाली फिल्मों के प्रदर्शन में सुधार के लिए उच्च घनत्व महत्वपूर्ण है। लक्ष्य सामग्री का घनत्व न केवल स्पटरिंग दर को प्रभावित करता है बल्कि फिल्मों के विद्युत गुणों (जैसे प्रतिरोधकता) और ऑप्टिकल गुणों को भी महत्वपूर्ण रूप से प्रभावित करता है। सामान्यतया, घनत्व जितना अधिक होगा, फिल्म का प्रदर्शन उतना ही बेहतर होगा। साथ ही, उच्च घनत्व और उच्च शक्ति भी लक्ष्य सामग्री को स्पटरिंग प्रक्रिया के दौरान थर्मल तनाव को बेहतर ढंग से झेलने में सक्षम कर सकती है, जिससे टूटने का खतरा कम हो जाता है। इसलिए, लक्ष्य सामग्री की गुणवत्ता को मापने के लिए घनत्व एक प्रमुख प्रदर्शन संकेतक है।
अनाज का आकार और वितरण: लक्ष्य सामग्री के दाने का आकार माइक्रोमीटर से लेकर मिलीमीटर तक होता है। बारीक अनाज लक्ष्य की स्पटरिंग दक्षता मोटे अनाज लक्ष्य से बेहतर है। समान अनाज आकार वाली लक्षित सामग्री समान रूप से मोटी जमा फिल्मों का उत्पादन करने की अधिक संभावना रखती है, जो बड़े क्षेत्र के फ्लैट पैनल डिस्प्ले कोटिंग प्रक्रियाओं के लिए एक महत्वपूर्ण प्रदर्शन गारंटी है।
टाइटेनियम लक्ष्य सामग्री के अनुप्रयोग
सेमीकंडक्टर उद्योग: टाइटेनियम लक्ष्य सामग्री का उपयोग इलेक्ट्रॉनिक घटकों, जैसे फोटोडायोड, फोटोट्रांजिस्टर, फोटोरिसीवर और ट्रांसमीटर इत्यादि के निर्माण के लिए किया जा सकता है।
ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक क्षेत्र: टाइटेनियम लक्ष्य सामग्री का उपयोग ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणों, जैसे एलईडी और सौर सेल आदि के निर्माण के लिए किया जा सकता है।
चुंबकीय सामग्री क्षेत्र: टाइटेनियम लक्ष्य सामग्री का उपयोग हार्ड डिस्क और चुंबकीय कार्ड आदि के निर्माण के लिए किया जा सकता है।
अन्य उच्च तकनीकी क्षेत्र: टाइटेनियम लक्ष्य सामग्री का व्यापक रूप से उच्च तापमान मिश्र धातु, प्रवाहकीय सामग्री, रासायनिक उत्प्रेरक और चिकित्सा उपकरण आदि में भी उपयोग किया जाता है।
इन क्षेत्रों को न केवल उच्च शक्ति और संक्षारण प्रतिरोध वाली सामग्रियों की आवश्यकता होती है, बल्कि स्थिर रासायनिक गुणों और जैव-अनुकूलता की भी आवश्यकता होती है। टाइटेनियम लक्ष्य सामग्री सटीक रूप से इन आवश्यकताओं को पूरा करती है और इन क्षेत्रों में एक महत्वपूर्ण सामग्री बन गई है।
बाओजी यिबाइट नई सामग्री प्रौद्योगिकी कं, लिमिटेड- बाओजी, चीन में टाइटेनियम लक्ष्य सामग्री आपूर्तिकर्ता